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电子光学车间净化

光学微电子行业净化车间设计方案
发布时间:2016-05-28   浏览次数:3327

文章摘要:关于光学微电子行业净化车间设计方案,主要是控制以下方面。如果是十万级净化车间,送风量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送风量(换气次数,是≥15次/h)。

  关于光学微电子行业净化车间设计方案,主要是控制以下方面。

净化车间设计方案

    A、净化车间设计方案的洁净度:

  LCD制屏的简略流程为:清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。

  在本净化车间设计方案里是指末端工艺的一些净化车间,其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类净化车间主要是这类产品的冲压车间、组装等净化车间,其洁净度一般为万级或十万级。

  B、净化车间设计方案室内空气参数要求:

  (1)温湿度要求:温度一般为24+2℃,相对湿度为55+5%。

  (2)新风量大。由于这类净化车间内,人员比较多,可以根据以下数值应取下列的最大值:非单向流洁净室总送风量的10-30%;补偿室内排风和保持室内正压值所需的新鲜空气量;保证室内每人每小时的新鲜空气量≥40m3/h。

  (3)送风量大。为了达成净化车间设计方案中洁净度及热湿平衡,需要较大的送风量,就300平方米的车间,吊顶高度为2.5米的,如果是万级,送风量就需要300×2.5×30=22500m3/h的送风量(换气次数,是≥25次/h);如果是十万级净化车间,送风量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送风量(换气次数,是≥15次/h)。


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